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大连奥首申请多元纳米粒子等相关专利,能够大幅提高晶圆对隐形激光的吸收率

标签: 日期:2025-01-29 08:06来源:未知作者:admin
国家知识产权局信息显示,大连奥首科技有限公司申请一项名为多元纳米粒子、复合纳米粒子组合物及其制备方法和应用的专利,公开号 CN 119350909 A,申请日期为2024年9月。 专利摘要显示,本发明提供一种多元纳米粒子、复合纳米粒子组合物及其制备方法和应用。

  国家知识产权局信息显示,大连奥首科技有限公司申请一项名为“多元纳米粒子、复合纳米粒子组合物及其制备方法和应用”的专利,公开号 CN 119350909 A,申请日期为2024年9月。

   专利摘要显示,本发明提供一种多元纳米粒子、复合纳米粒子组合物及其制备方法和应用。所述多元纳米粒子包括金属纳米颗粒、半导体纳米颗粒和介质纳米颗粒;其中,所述金属纳米颗粒、所述半导体纳米颗粒与所述介质纳米颗粒的质量比为1:: 本发明的多元纳米粒子能够使复合纳米粒子组合物具有“陷光”纳米结构。本发明的含有该多元纳米粒子的复合纳米粒子组合物,在进行晶圆隐形激光切割时,能够使晶圆表面形貌具有微纳米尺度凹凸结构的“陷光”界面。本发明的该复合纳米粒子组合物能够有效吸收隐形激光,减少反射和散射,从而大幅提高晶圆对隐形激光的吸收率。

   天眼查资料显示,大连奥首科技有限公司,成立于2012年,位于大连市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本300万人民币,实缴资本30万人民币。通过天眼查大数据分析,大连奥首科技有限公司专利信息24条,此外企业还拥有行政许可2个。

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