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中微半导体取得一种气体喷淋头及化学气相沉积设备专利

标签: 日期:2025-02-24 15:28来源:未知作者:admin
国家知识产权局信息显示,中微半导体设备股份有限公司取得一项名为一种气体喷淋头及化学气相沉积设备的专利,授权公告号 CN 115478261 B,申请日期为 2021 年 5 月。 天眼查资料显示,中微半导体设备股份有限公司,成立于2004年,位于上海市,是一家以从事计

  国家知识产权局信息显示,中微半导体设备股份有限公司取得一项名为“一种气体喷淋头及化学气相沉积设备”的专利,授权公告号 CN 115478261 B,申请日期为 2021 年 5 月。

   天眼查资料显示,中微半导体设备股份有限公司,成立于2004年,位于上海市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本62236.3735万人民币,实缴资本61927.9423万人民币。通过天眼查大数据分析,中微半导体设备股份有限公司共对外投资了27家企业,参与招投标项目65次,知识产权方面有商标信息71条,专利信息1447条,此外企业还拥有行政许可71个。

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