您现在的位置:主页 > 时闻 >

苏州玖凌光宇科技取得用于磁控溅射的薄膜精确沉积专利

标签: 日期:2025-02-24 15:18来源:未知作者:admin
国家知识产权局信息显示,苏州玖凌光宇科技有限公司取得一项名为用于磁控溅射的薄膜精确沉积方法以及沉积薄膜的专利,授权公告号CN 118308701 B,申请日期为2024年5月。 天眼查资料显示,苏州玖凌光宇科技有限公司,成立于2020年,位于苏州市,是一家以从事

  国家知识产权局信息显示,苏州玖凌光宇科技有限公司取得一项名为“用于磁控溅射的薄膜精确沉积方法以及沉积薄膜”的专利,授权公告号CN 118308701 B,申请日期为2024年5月。

   天眼查资料显示,苏州玖凌光宇科技有限公司,成立于2020年,位于苏州市,是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本2240.3334万人民币,实缴资本741.8094万人民币。通过天眼查大数据分析,苏州玖凌光宇科技有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目4次,专利信息15条,此外企业还拥有行政许可1个。

顶一下
(0)
0%
踩一下
(0)
0%
相关文章
共有人强势围观,期待你的评论!评论区
小提示: 本站的评论不需要审核,即发即显,有什么话你就尽管说吧,但不要过激哦,以免遭跨省处理!

验证码:点击我更换图片 匿名评论
最新评论