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上海衍梓智能取得一种外延反应腔室及生长设备专利,使衬底加热时温度更加均匀

标签: 日期:2025-01-22 20:45来源:未知作者:admin
国家知识产权局信息显示,上海衍梓智能科技有限公司取得一项名为一种外延反应腔室及生长设备的专利,授权公告号CN 222313381 U,申请日期为2024年4月。 专利摘要显示,本实用新型涉及半导体制造领域,具体地,涉及一种外延反应腔室及生长设备,包括反应腔室

  国家知识产权局信息显示,上海衍梓智能科技有限公司取得一项名为“一种外延反应腔室及生长设备”的专利,授权公告号CN 222313381 U,申请日期为2024年4月。

   专利摘要显示,本实用新型涉及半导体制造领域,具体地,涉及一种外延反应腔室及生长设备,包括反应腔室,所述反应腔室侧壁开设有进气通道和出气通道,所述进气通道、出气通道对应设在两侧,所述反应腔室内转动设有基座,所述基座底面中心固接有旋转轴,所述旋转轴穿出所述反应腔室底面,所述反应腔室外侧顶面设有加热装置,所述反应腔室外侧顶面设有热量反射装置。本实用新型通过在反应腔室顶部设置热量反射装置可以使衬底加热时温度更加均匀。

   天眼查资料显示,上海衍梓智能科技有限公司,成立于2020年,位于上海市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本292.6829万人民币,实缴资本292.6829万人民币。通过天眼查大数据分析,上海衍梓智能科技有限公司共对外投资了4家企业,知识产权方面有商标信息20条,专利信息35条,此外企业还拥有行政许可2个。

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