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三星显示申请显示设备及制造显示设备的方法专利,使第二堤层的性能优化

标签: 日期:2025-01-27 10:09来源:未知作者:admin
国家知识产权局信息显示,三星显示有限公司申请一项名为显示设备及制造显示设备的方法的专利,公开号CN 119342998 A,申请日期为 2024 年 7 月。 专利摘要显示,提供了显示设备及制造显示设备的方法。显示设备包括:衬底;晶体管,设置在衬底上;通孔层,设

  国家知识产权局信息显示,三星显示有限公司申请一项名为“显示设备及制造显示设备的方法”的专利,公开号CN 119342998 A,申请日期为 2024 年 7 月。

   专利摘要显示,提供了显示设备及制造显示设备的方法。显示设备包括:衬底;晶体管,设置在衬底上;通孔层,设置在晶体管之上并且包括延伸到晶体管的接触孔;像素电极,设置在通孔层上并且通过接触孔连接到晶体管;第一堤层和第二堤层,第一堤层设置在像素电极上并且在第一方向上延伸,第二堤层在与第一方向交叉的第二方向上延伸;发光层,设置在像素电极上;以及公共电极,设置在发光层上,其中,第二堤层包括不与接触孔重叠的第一区域和与接触孔重叠的第二区域,以及其中,第二区域的宽度大于第一区域的宽度。

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