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上海芯力基取得基于晶体管层设计提升集成电路效能的设计方法、系统及介质专利

标签: 日期:2025-02-19 21:59来源:未知作者:admin
国家知识产权局信息显示,上海芯力基半导体有限公司取得一项名为基于晶体管层设计提升集成电路效能的设计方法、系统及介质的专利,授权公告号 CN 119150786 B,申请日期为2024年11月。 天眼查资料显示,上海芯力基半导体有限公司,成立于2023年,位于上海市

  国家知识产权局信息显示,上海芯力基半导体有限公司取得一项名为“基于晶体管层设计提升集成电路效能的设计方法、系统及介质”的专利,授权公告号 CN 119150786 B,申请日期为2024年11月。

   天眼查资料显示,上海芯力基半导体有限公司,成立于2023年,位于上海市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本674.28万人民币。通过天眼查大数据分析,上海芯力基半导体有限公司共对外投资了1家企业,知识产权方面有商标信息3条,专利信息23条。

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