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华芯程取得晶片表面形貌的光刻偏差补偿方法专利

标签: 日期:2025-01-26 17:30来源:未知作者:admin
国家知识产权局信息显示,华芯程科技有限公司取得一项名为晶片表面形貌的光刻偏差补偿方法、装置、设备及介质的专利,授权公告号 CN 118732419 B,申请日期为2024年8月。 天眼查资料显示,华芯程科技有限公司,成立于2021年,位于杭州市,是一家以从事软件和

  国家知识产权局信息显示,华芯程科技有限公司取得一项名为“晶片表面形貌的光刻偏差补偿方法、装置、设备及介质”的专利,授权公告号 CN 118732419 B,申请日期为2024年8月。

   天眼查资料显示,华芯程科技有限公司,成立于2021年,位于杭州市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本849.229773万人民币,实缴资本849.229773万人民币。通过天眼查大数据分析,华芯程科技有限公司共对外投资了4家企业,知识产权方面有商标信息59条,专利信息73条,此外企业还拥有行政许可2个。

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