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福建省晋华集成电路申请半导体器件及其制作方法专利,助力半导体器件制造

标签: 日期:2025-01-24 05:01来源:未知作者:admin
国家知识产权局信息显示,福建省晋华集成电路有限公司申请一项名为半导体器件及其制作方法的专利,公开号CN 119277783 A,申请日期为2024年10月。 专利摘要显示,本发明公开了一种半导体器件及其制作方法,包括衬底,多个第一下电极位于所述衬底上,所述多个

  国家知识产权局信息显示,福建省晋华集成电路有限公司申请一项名为“半导体器件及其制作方法”的专利,公开号CN 119277783 A,申请日期为2024年10月。

   专利摘要显示,本发明公开了一种半导体器件及其制作方法,包括衬底,多个第一下电极位于所述衬底上,所述多个第一下电极在互不垂直的第一方向、第二方向和第三方向上排列成阵列,各所述第一下电极的外轮廓为圆形,多个第二下电极位于所述衬底上,所述第二下电极的外轮廓包括一主体和三个突出部,其中所述主体为圆形,所述三个突出部为圆弧形,分别从所述主体的中心沿着第四方向、第五方向和第六方向向外延伸。

   天眼查资料显示,福建省晋华集成电路有限公司,成立于2016年,位于泉州市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3447733.068816万人民币,实缴资本2523019.453654万人民币。通过天眼查大数据分析,福建省晋华集成电路有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目565次,知识产权方面有商标信息12条,专利信息893条,此外企业还拥有行政许可62个。

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